專業晶圓退火設備:
For SiC / Silicon / GaN / GaAs / InP
產品解決方案:
AI Servers / Power Discrete Applications
Optical Applications / Micro LEDs / CPO (CW Lasers and Photodiodes)
Communication / RF & Power Amplifier Applications
Automotive / Power Device Applications
製程應用
Ohmic / Schottky contact
Ion-implantation treatment
Metal silicide formation
PBSG/PSG reflow
Dopant activation
ITO film activation
Wafer manufacturing
產品特徵
8" & 6"晶圓產品
全自動手臂晶圓傳送
SMIF / Open cassette 裝卸口
常壓 / 真空工藝相容
雙面上下加熱燈管矩陣
客戶優勢
量產生產證明
無氧 (O2 < 1 ppm) 環境監控
優秀的產品均勻性
高產能的晶圓傳送
支持SECS / GEM 通訊協議
相容SEMI-S2 / CE 安全規定
全自動快速熱處理(RTP)系統
RTP-1200A(S)
*GaAs/InP total solutions
全自動傳送退火設備,能支援6 英寸向下兼容尺寸,滿足用戶端工廠小尺寸產品的生產需求

RTP-1200A(SEC)
*Major installed base in SiC & GaN
全支援 6 至 8 吋晶圓的全自動生產設備。配備 SMIF Load Port 介面,並擁有豐富的裝機實績,已成為亞洲化合物半導體產業擴產的重要設備

RTP-2200A(SEC)
*Si-base implanted diffusion control
*Dual-chamber
全自動晶圓生產設備,具備更快速的升溫與降溫能力,可提供更佳的矽擴散製程控制。雙腔體設計可協助客戶提升產能與生產效率

半自動快速熱處理(RTP)系統
半自動 RTP
適合小型生產線、研發和製程監控。通過更換不同類型的承載器,製程腔體可兼容2至12英寸的晶圓,為各種應用提供靈活性

桌上型 RTP
對於學術領域、實驗室和研發中心,Premtek桌上型RTP提供具成本效益的完全解決方案,兼容2至6英寸的晶圓。簡單、高效,旨在滿足全球研究人員的需求

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