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半導體製程設備 - 快速升溫退火爐

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專業晶圓退火設備:

For SiC / Silicon / GaN / GaAs / InP

產品解決方案:

AI Servers / Power Discrete Applications 
Optical Applications / Micro LEDs / CPO (CW Lasers and Photodiodes)
Communication / RF & Power Amplifier Applications
Automotive / Power Device Applications

 

製程應用

Ohmic / Schottky contact

Ion-implantation treatment

Metal silicide formation

PBSG/PSG reflow

Dopant activation

ITO film activation

Wafer manufacturing

產品特徵

8" & 6"晶圓產品

全自動手臂晶圓傳送

SMIF / Open cassette 裝卸口

常壓 / 真空工藝相容

雙面上下加熱燈管矩陣

客戶優勢

量產生產證明

無氧 (O2 < 1 ppm) 環境監控

優秀的產品均勻性

高產能的晶圓傳送

支持SECS / GEM 通訊協議

相容SEMI-S2 / CE 安全規定


全自動快速熱處理(RTP)系統

RTP-1200A(S)

*GaAs/InP total solutions

全自動傳送退火設備,能支援6 英寸向下兼容尺寸,滿足用戶端工廠小尺寸產品的生產需求

RTP-1200A(SEC)

*Major installed base in SiC & GaN

全支援 6 至 8 吋晶圓的全自動生產設備。配備 SMIF Load Port 介面,並擁有豐富的裝機實績,已成為亞洲化合物半導體產業擴產的重要設備

RTP-2200A(SEC)

*Si-base implanted diffusion control

*Dual-chamber

全自動晶圓生產設備,具備更快速的升溫與降溫能力,可提供更佳的矽擴散製程控制。雙腔體設計可協助客戶提升產能與生產效率


半自動快速熱處理(RTP)系統

半自動 RTP

適合小型生產線、研發和製程監控。通過更換不同類型的承載器,製程腔體可兼容2至12英寸的晶圓,為各種應用提供靈活性

 

桌上型 RTP

 對於學術領域、實驗室和研發中心,Premtek桌上型RTP提供具成本效益的完全解決方案,兼容2至6英寸的晶圓。簡單、高效,旨在滿足全球研究人員的需求

 

 

如有RTP的採購相關需求,請留下以下相關資訊或來電詢問。
如果您有任何發問、建議、或是只想與我們聯繫、我們很樂意聽取您的意見!

+886-3-572-9000
400_sales@premtek.com.tw
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