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半导体制程设备 - 快速升温退火炉

  • 首页

专业晶圆退火设备:

For SiC / Silicon / GaN / GaAs / InP

产品解决方案:

AI Servers / Power Discrete Applications 
Optical Applications / Micro LEDs / CPO (CW Lasers and Photodiodes)
Communication / RF & Power Amplifier Applications
Automotive / Power Device Applications

 

制程应用

Ohmic / Schottky contact

Ion-implantation treatment

Metal silicide formation

PBSG/PSG reflow

Dopant activation

ITO film activation

Wafer manufacturing

产品特征

8" & 6"晶圆产品

全自动手臂晶圆传送

SMIF / Open cassette 装卸口

常压 / 真空工艺相容

双面上下加热灯管矩阵

客户优势

量产生产证明

无氧 (O2 < 1 ppm) 环境监控

优秀的产品均匀性

高产能的晶圆传送

支持SECS / GEM 通讯协议

相容SEMI-S2 / CE 安全规定


全自动快速热处理(RTP)系统

RTP-1200A(S)

*GaAs/InP total solutions

全自动传送退火设备,能支持6 英寸向下兼容尺寸,满足客户端工厂小尺寸产品的生产需求

RTP-1200A(SEC)

*Major installed base in SiC & GaN

全支持 6 至 8 吋晶圆的全自动生产设备。配备 SMIF Load Port 接口,并拥有丰富的装机实绩,已成为亚洲化合物半导体产业扩产的重要设备

RTP-2200A(SEC)

*Si-base implanted diffusion control

*Dual-chamber

全自动晶圆生产设备,具备更快速的升温与降温能力,可提供更佳的硅扩散制程控制。双腔体设计可协助客户提升产能与生产效率


半自动快速热处理(RTP)系统

半自动 RTP

适合小型生产线、研发和制程监控。通过更换不同类型的承载器,制程腔体可兼容2至12英寸的晶圆,为各种应用提供灵活性

 

桌上型 RTP

 对于学术领域、实验室和研发中心,Premtek桌上型RTP提供具成本效益的完全解决方案,兼容2至6英寸的晶圆。简单、高效,旨在满足全球研究人员的需求

 

 

如有RTP的采购相关需求,请留下以下相关信息或来电询问。
如果您有任何发问、建议、或是只想与我们联系、我们很乐意听取您的意见!

+886-3-572-9000
400_sales@premtek.com.tw
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4F, No. 47, Ln. 2, Kuang-Fu Rd. Sec. 2, Hsin-Chu City,Taiwan
TEL +886-3-572-2000
FAX +886-3-572-5000
Mail pii@premtek.com.tw

设备发展中心

Equipment Development Center
ADD 台湾新竹市水利路81号5楼之6
5F-6, No.81, Shuili Rd., Hsinchu City , Taiwan
TEL +886-3-572-9000
FAX +886-3-573-9767
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